商品別名 |
氧化鋯球,光刻膠氧化鋯球,高純度氧化鋯球,低磨耗氧化鋯球 |
面向地區(qū) |
全國 |
產(chǎn)地 |
河北 |
尺寸 |
0.03-3.0 |
工藝 |
研磨 |
日本進(jìn)口東麗鋯球0.03mm,0.05mm,0.1mm,0.3mm，1.0mm應(yīng)用于光刻膠工藝生產(chǎn)，
在光刻膠制備過程中，氧化鋯球主要用于研磨和分散原材料（如樹脂、光敏劑等），其規(guī)格選擇需兼顧研磨效率、粒徑控制需求及避免污染。結(jié)合光刻膠的高純度要求和納米級精度特征，關(guān)鍵規(guī)格如下：
一、核心規(guī)格要求
?粒徑范圍：0.03-0.05–0.1mm-0.3mm?
?超細(xì)研磨需求?：光刻膠終顆粒需達(dá)到納米級（通常D50 10-20nm，因此需采用微米級鋯珠。
例如：.0.1mm鋯珠適用納米級分散（可磨至50–100nm）]；
0.1–0.3mm鋯珠適合亞微米級研磨
?匹配設(shè)備?：立式砂磨機(jī)、納米砂磨機(jī)常用.0.03-0.05–0.1mm-0.3mm?規(guī)格]。
?材質(zhì)類型：95%釔穩(wěn)定氧化鋯珠?
高純度保障?：% ZrO? + % Y?O?配方可避免SiO?/Al?O?雜質(zhì)污染6]，符合光刻膠對金屬離子含量的嚴(yán)苛要求。
?物理性能?：
密度6.0≥. g/cm3（提供更強(qiáng)沖擊力）]；
維氏硬度>1200 HV（耐磨性為玻璃珠的26倍以上）?
光刻膠制備過程中，氧化鋯球作為研磨介質(zhì)直接影響光刻膠的純度、顆粒均勻性及工藝穩(wěn)定性。以下是光刻膠工藝對氧化鋯球的核心要求：
?金屬雜質(zhì)控制?：光刻膠對Fe、Cu、Na等金屬離子極為敏感，氧化鋯球需滿足ZrO?含量≥95%（部分要求>99%），磨損率≤0.01 ppm/h，避免金屬污染導(dǎo)致曝光缺陷或電路短路?24。
?化學(xué)惰性保障?：需在強(qiáng)酸、強(qiáng)堿及有機(jī)溶劑（如PGMEA、乙酸丁酯）中保持穩(wěn)定，不與光刻膠成分反應(yīng)?410。
河北山啟新材料科技有限公司 12年
———— 認(rèn)證資質(zhì) ————
